蝕刻液是半導體制造流程中重要的化學品之一，其配方的成分含量和純度，對器件的性能具有關鍵影響。ICP、IR、LC、MS均是常用的分析手段，沃特世專注液相色譜分離(LC)和質譜(MS)檢測的分析平臺研發，無論是提升日常分析的簡易性，還是借助多一維分子量信息進行快速監控，均有對應的色譜質譜技術助力原料放行、配方研發、質控和問題溯源。

蝕刻液中的離子殘留，在液相色譜分析中非常容易帶來基線的波動和結果的偏差。在PEG組分分析中，質譜檢測器(QDa)多一維質荷比的優勢，可以助力更好地采集特定離子的譜圖信息，降低背景基線干擾，日常質控方法更穩定。

圖1.PEG400 SIR采集色譜圖和質譜圖(m/z459.36)。

在原料放行和過程分析中，需要把控品質和快速判斷批次穩定性，但由于蝕刻液樣品中的酸、金屬鹽等組分，在色譜分離前需要較為復雜的前處理步驟。而借助質譜的直接進樣探桿，無需或只需很少的樣品前處理，一次性玻璃毛細管蘸取樣品插入質譜中進行表征。

該技術在Waters SQD2、Xevo家族串聯四極桿、四極桿串聯飛行時間質譜平臺上均可輕松配置，擴展多樣化進樣分析能力，固體、液體、半固體均可實現質譜直接分析。